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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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plasma設(shè)備應(yīng)用下,高分子材料表面發(fā)生的變化有哪些呢?

plasma設(shè)備應(yīng)用下,高分子材料表面發(fā)生的變化有哪些呢?
       高分子材料具有許多優(yōu)點(diǎn),比如密度小、成本低廉、因此廣泛應(yīng)用于包裝、印刷、電子復(fù)合材料等行業(yè)。但是它們的應(yīng)用范圍和效益往往受表面性能的限制,因此在此期間需要對(duì)其表面性能進(jìn)行改進(jìn)或改變,例如,材料或組件的粘接、聚合物膜的印刷、透光性等,在此期間需要使用等離子清洗技術(shù),具有廣闊的應(yīng)用前景。復(fù)合物經(jīng)plasma設(shè)備處理后,可以加強(qiáng)粘結(jié)力,改善成品質(zhì)量,plasma設(shè)備清洗技術(shù)可以提高材料的表面活性。
plasma設(shè)備清洗的機(jī)理主要是依靠等離子體中活性顆粒的“激活作用”來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)物體表面污漬的去除。利用等離子體對(duì)金屬材料進(jìn)行表面改性,可以提高其耐磨性和耐腐蝕性,從而提高材料的使用壽命和效率,提高裝飾性能,有利于粘接、涂裝和印刷。
      作為一種環(huán)保型非破壞性表面處理技術(shù),低溫plasma設(shè)備在高分子膜材料和紡織材料的表面處理中多有應(yīng)用。對(duì)其表面進(jìn)行表面處理,可以使其表面形成活性官能團(tuán),從而提高表面活性。

plasma設(shè)備

       CRFplasma處理技術(shù)是將等離子體中的高能量粒子轟擊材料表面,使表面物質(zhì)降解,并提高表面粗糙度,如果Plasma設(shè)備中存在其它活性粒子,例如氧等離子,就可以激活表面物質(zhì),從而激活表面物質(zhì)。等離子體處理技術(shù)可以應(yīng)用于纖維、塑料、橡膠和復(fù)合材料的表面處理,并能利用反應(yīng)性氣體(如氧)生成能激活復(fù)合材料表面的微粒,從而確保表面增強(qiáng)了足夠的粘結(jié)強(qiáng)度。

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