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CRF plasma 等離子清洗機

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想了解誠峰crf等離子清洗機工作的分類都有哪些?

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       首先,我們來了解一下,誠峰等離子清洗機的配置都有哪些,最為基礎的等離子清洗裝置包括四個主要部件:激發功率、真空泵、真空室、反應氣源。激勵源是為氣體放電提供能量的電源,可采用不同的頻率;真空泵的主要作用是抽除副產物,包括旋片式機械泵或增壓泵;以及在真空腔中帶放電電離的電極。

等離子清洗機

       反應性氣體轉化為等離子體,反應氣體通常是由氬、氧、氫、氮、四氯化碳等單一氣體,或兩種氣體混合。
       crf等離子清洗機的效用主要取決于多種因素決定的,包括化學性質的選擇,工藝參數,功率,時間,部件放置和電極結構。各種清洗用途所需的設備結構不同,電極接法、反應氣體種類不同,其工藝原理也有很大差異,有的是物理反應,一些為化學反應,另一類是物理化學作用,而反應的有效性則依賴于等離子體氣源、crf等離子清洗機系統的組合和等離子加工操作參數。plasma顯示了半導體生產中子離子工藝的選擇和應用,等離子體腐蝕、等離子去膠在半導體制程中較早采用crf等離子清洗機去膠,用常壓輝光冷等離子體形成的活性物質來清潔有機粘污和光刻膠,是取代濕化學清洗的一種綠色方法。


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