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CRF plasma 等離子清洗機

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使用低溫等離子設備產生的溫度對材料的工藝的影響有多大?

使用低溫等離子設備產生的溫度對材料的工藝的影響有多大?
        低溫等離子設備的主機通常是13.56兆赫茲的射頻電源,因其產生的等離子致敏性高,能量比氣態分子高,而且溫度較低,一般輸出功率為1~2KW,大功率為5KW,小功率為數百W,多輸出功率為40KHz,中頻輸出功率為40KHz,與射頻電源相反,電漿相對密度較低,但功率大,能量高,大功率為幾十KW。真空低溫等離子設備放電射頻清潔器的溫度與平日屋內溫度也一樣,當然要是全天都在使用真空低溫等離子設備還是匹配上水冷卻系統。

 低溫等離子設備

       電漿噴射的均溫處于200至250℃。如果能夠正確設定距離和速度,表面溫度可以達到70-80℃。本工藝適用于各種標準品(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體等)的清洗,一般采用噴射式低溫等離子設備,也可應用于流水線上的裝置,由于流水線的不斷運轉,材料在噴嘴下停留時間較長。由于氮氣能降低等離子體溫度,有些噴射等離子體清洗也能使用氮。電暈放電需要注意的是,低溫等離子設備中還有一種產品叫做電暈,其實電暈也是等離子體清洗機的一種分類。電暈機的洗滌溫度一般較高,電暈機與噴射等離子體的洗滌溫度相似,有時遇到不耐高溫的材料,也會用氮清洗。事實上,沒有必要太擔心溫度問題。目前的低溫等離子設備可以很好地調節溫度,使材料清洗達到理想的成效。

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